Ongredients Skin Barrier Calming Mask

Rahustav kangasmask

Hinnavahemik: 2,15 € kuni 12,75 €

-
+
-15%

Kirjeldus

Rahustav mask niisutab ja taastab nahka sügavuti, aidates vähendada ärritust ja punetust. Viiekihiline hüaluroonhappe kompleks hoiab niiskust, tugevdab naha kaitsebarjääri ja muudab naha pehmeks ja elastseks. Mask parandab jumet, ahendab poore ja annab nahale terve sära. Sobib kõikidele nahatüüpidele, ka tundlikule nahale.

Peamised eelised:

  • Sügav niisutus ja taastav toime.
  • Rahustab ja vähendab punetust.
  • Hüpallergeenne koostis.
  • Viiekihiline hüaluroonhape tagab pikaajalise niiskuse.
  • Silub ja kirkastab nahka.

Toime:

  • Aitab vähendada aknet ja naha ebatasasusi.
  • Tugevdab naha kaitsebarjääri.
  • Jätab naha värskeks ja pehmeks juba pärast esimest kasutuskorda.

Arvustused

There are no reviews yet

Lisa arvustus
Ongredients Skin Barrier Calming Mask Ongredients Skin Barrier Calming Mask
Hinnang*
0/5
* Rating is required
* Answer is required
* Answer is required
Sinu arvustus
* Review is required
Nimi
* Name is required
Add photos or video to your review
* Please tick the checkbox to proceed
* Please confirm that you are not a robot

K & V

Küsi küsimus
Ongredients Skin Barrier Calming Mask Ongredients Skin Barrier Calming Mask
Your question
* Question is required
Nimi
* Name is required
* Please tick the checkbox to proceed
Seda saiti kaitseb reCAPTCHA ning kehtivad Google Privaatsuspoliitika ja Teenusetingimused.
Küsimusi veel ei ole

Water, Dipropylene Glycol, Caprylic/Capric Triglyceride, Glycerin, Cetyl Ethylhexanoate, Butylene Glycol, Polyglyceryl-3 Methylglucose Distearate, Hydroxyethyl Urea, Chlorphenesin, Glyceryl Stearate, Vitex Agnus-Castus Fruit Extract, Carbomer, Allantoin, Trehalose, Ethylhexylglycerin, Xanthan Gum, Dipotassium Glycyrrhizate, Shea Butter, Disodium EDTA, 1,2-Hexanediol, Ceramide NP, Pentylene Glycol, Polyglyceryl-10 Laurate, Centella Asiatica Extract, Sodium Hyaluronate, Ocimum Basilicum (Basil) Seed Extract, Caprylyl Glycol, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hyaluronic Acid, Gluconolactone, Madecassoside, Madecassic Acid, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Asiaticoside, Asiatic Acid, Tripeptide-1, Palmitoyl Tripeptide-1, Palmitoyl Pentapeptide-4, Hexapeptide-9, Hexapeptide-11, Copper Tripeptide-1

Kasutamine:

  1. Pärast puhastamist kanna nahale toonik.
  2. Aseta mask näole ja joonda silmade ja huulte järgi.
  3. Hoia 10-20 minutit, eemalda ja masseeri essents nahka.

Viga: Kontaktivormi ei leitud.