Dr. Althea 345 Relief Cream Mask

Taastav kangasmask

Hinnavahemik: 3,25 € kuni 11,90 €

-
+
-18%

Kirjeldus

Dr. Althea 345 Relief Cream Mask on kreemja essentsiga kangasmask, mis niisutab intensiivselt, rahustab tundlikku nahka ja aitab tugevdada naha kaitsebarjääri.

Mask põhineb populaarse 345 Relief Cream kreemi koostisel ning aitab leevendada kuivust ja ebamugavustunnet, toetades naha loomulikku taastumist. Pärast kasutamist on nahk pehmem, siledam ja värskema välimusega.

Eelised

  • Niisutab ja rahustab nahka intensiivselt
  • Aitab vähendada punetuse nähtavust
  • Toetab naha kaitsebarjääri
  • Pehmendab nahka ja vähendab kuivust
  • Sobib tundlikule nahale

Kellele sobib

  • Tundlikule ja ärritunud nahale
  • Punetusele kalduvale nahale
  • Kuivale ja niiskusvaesele nahale
  • Kõigile nahatüüpidele

Peamised koostisosad

  • PDRN (Sodium DNA) – aitab toetada naha loomulikku uuenemist.
  • Resveratrool – antioksüdant, mis aitab kaitsta nahka väliste stressitegurite eest.
  • Keramiidid – aitavad tugevdada naha kaitsebarjääri.
  • Hüaluroonhape – niisutab intensiivselt ja aitab säilitada naha niiskust.

Arvustused

There are no reviews yet

Lisa arvustus
Dr. Althea 345 Relief Cream Mask Dr. Althea 345 Relief Cream Mask
Hinnang*
0/5
* Rating is required
* Answer is required
* Answer is required
Sinu arvustus
* Review is required
Nimi
* Name is required
Add photos or video to your review
* Please tick the checkbox to proceed
* Please confirm that you are not a robot

K & V

Küsi küsimus
Dr. Althea 345 Relief Cream Mask Dr. Althea 345 Relief Cream Mask
Your question
* Question is required
Nimi
* Name is required
* Please tick the checkbox to proceed
Seda saiti kaitseb reCAPTCHA ning kehtivad Google Privaatsuspoliitika ja Teenusetingimused.
Küsimusi veel ei ole

Aqua (Water), Tea Tree Leaf Water, Methylpropanediol, 1,2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Soybean Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract

Kasutamine

Pärast naha puhastamist, toonikut ja seerumit aseta mask ühtlaselt näole.

Hoia 10–20 minutit, eemalda mask ja patsuta järelejäänud essents õrnalt naha sisse. Vajadusel kanna peale näokreem.

Viga: Kontaktivormi ei leitud.