Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask

Centella rahustav lehtmask

2 arvustust

Hinnavahemik: 1,90 € kuni 17,00 €

-
+
Sold out

Kirjeldus

Beauty of Joseon Centella Asiatica Rahustav Mask sisaldab 15% Centella Asiatica ekstrakti, mis on üks hämmastavaid koostisosade nahaprobleemide rahustamiseks, ning ka 3 tüüpi hüaluroonhapet intensiivseks niisutamiseks.

Peamised aktiivsed koostisosad:

Centella asiatica ekstrakt (15%) tervendab haavu, leevendab punetust ja sügelust, annab leevendust akne ja põletiku all kannatavale nahale. See mitte ainult ei toimi kui tugev looduslik antioksüdant, vaid takistab ka naha enneaegset vananemist, stimuleerides kollageeni sünteesi, mida vanuse suurenedes toodetakse üha vähem.

3 tüüpi hüaluroonhape niisutab nahka ideaalselt, kõrvaldab kuivad ja ketendavad alad. Tänu oma võimele meelitada vett väljastpoolt, muudab hüaluroonhape naha, silub peeneid kortse.

2 arvustus tootele Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask

4.5
Baseerub 2 arvustusel
5
50
50%
4
50
50%
3
0%
2
0%
1
0%
1-2 of 2 reviews
  1. JG
    JG

    Очень хорошая маска. Успокаивает и увлажняет кожу

    (0) (0)
  2. I
    I

    Хорошо увлажняет, понравился

    (0) (0)
Lisa arvustus
Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask
Hinnang*
0/5
* Rating is required
* Answer is required
* Answer is required
Sinu arvustus
* Review is required
Nimi
* Name is required
Add photos or video to your review
* Please tick the checkbox to proceed
* Please confirm that you are not a robot

K & V

Küsi küsimus
Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask Beauty of Joseon Centella Asiatica Calming Mask
Your question
* Question is required
Nimi
* Name is required
* Please tick the checkbox to proceed
Seda saiti kaitseb reCAPTCHA ning kehtivad Google Privaatsuspoliitika ja Teenusetingimused.
Küsimusi veel ei ole
Water, Centella Asiatica Extract, Butylene Glycol, 1,2-hexanediol, Ethylhexylglycerin, Glycereth-26, Niacinamide, Hydroxyacetophenone, Purslane Extract, Arginine, Acrylates/c10-30 Alkyl Acrylate Crosspolymer, Polyglyceryl-4 Caprate, Polyglyceryl-6 Caprylate, Hydroxyethylcellulose, Carrageenan, Adenosine, Disodium EDTA, Ginseng Extract, Mugwort Leaf Extract, Goji Berry Extract, Green Tea Extract, Panthenol, Sunflower Seed Oil, Chamomile Flower Oil, Propanediol, Sodium Hyaluronate, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Hyaluronic Acid

Kasutamine: Kanna mask puhastatud ja toonitud nahale. Eemalda mask 10-20 minuti pärast. Levita ülejäänud essents õrnalt näole.

Viga: Kontaktivormi ei leitud.